MC-200
Annealsys MC-200 to reaktor CVD zaprojektowany, aby sprostać wymaganiom jednostek badawczo-rozwojowych dla procesów MOCVD.
Waporyzatory Direct Liquid Injection (DLI) zapewniają doskonałą kontrolę przepływu par prekursorów, umożliwiając osadzanie wysokiej jakości warstw, w tym nanolaminatów.
Opcje PE-CVD i PE-ALD pozwalają na obniżenie temperatury osadzania.
Przykładowe zastosowania:
- Tlenki, azotki
- Metale, stopy
- Materiały z grupy III-V, półprzewodniki o szerokiej przerwie energetycznej
- Nanorurki i nanodruty
Producent:
- Annealsys
Aplikacja:
- Technologie cienkowarstwowe
Kontakt
Piotr CZERWIŃSKI
Karta produktu
Pobierz dokument
przykładowe dostępne produkty producenta
